浅谈光敏印章的制造原理

　　光敏印章是20世纪90年代初有日本发明的，是由一种特殊的化工组成材料，通过专用设备瞬间宣布强光辐射，使材料外表发作光氧化及热交联效果然后制造成的印章。

　　专用的光敏印章材料（光敏平面橡胶）是一种超微泡材料，其外表的为空孔径十分小，均匀孔径小于30um。自身具有储油渗油及光闪烁特性。光敏材料在收到强光照射的时候，能够吸收光能并转换成热能。曝光时，光敏材料外表见光部分瞬间吸收大量的光能后，温度敏捷上升并达到熔点。闪光结束后，外表溶体的温度敏捷下降，构成必定厚度和强度的薄膜，这层薄膜一起起到封孔闭空的效果，并阻隔印油的浸透。

　　利用光敏材料的特征，用激光打印机将章稿打印在具有透光特征的硫酸纸或激光胶片上，将其掩盖在光敏材料上后放在曝光机内曝光，因为章稿图文自身具有黑度不能曝光，因而长高图文掩盖的光敏材料没有遭到光照仍然能够储油渗油，而其他部分则因为遭到光照发作凝结不能渗油，然后完成了印章的制造。因为激光打印机的打印精度在1200DPI以上，加之光敏材料自身的超微孔结构，因而，光敏印章的精度比采用激光雕刻的印章（如国产原子印章、浸透印）或其他技能方法制造的印章的精度高出许多，是前制造精度较高的一种印章。

　　光敏印章的印面有顶面和底面构成。顶面有细微细密的敞开微孔构成，均匀孔径小鱼30Um;底面成黑色，滑润平整，其外表必定厚度和强度的薄膜构成。这层薄膜起到封孔闭孔、阻隔印油浸透的效果，与顶面坚持0.1~0.3mm的水平深度。

　　光敏印章是依据设计图画制造而成，印章图画有图文和空白区构成。图文区制成印章顶面，空白区制成印章底面。顶面微孔中的印油在盖印压力效果下从微孔中深处构成印迹，但制造印章过程中出现在空白的细微脏点，可导致该部位为空不能封闭，成凸面开孔，构成瑕疵点印迹。